近日,由创微微电子(常州)有限公司研发生产的8吋Cassette-less清洗设备顺利交付至上海积塔半导体有限公司并开始验证阶段,运行情况良好。近期创微成功中标该客户后续10余台清洗设备重复订单,制程涵盖8吋至12吋。该批设备将用于集成电路前段湿法刻蚀、去胶、清洗以及后段金属刻蚀、有机物去除相关工艺,标志着创微在湿法清洗领域已达到国际领先水平。
创微自2020年创立以来,依托捷佳伟创集团平台,共享人才及技术,专注于整合国内外湿法技术与资源,引进台湾地区、韩国、日本等专家团队。研发团队攻坚克难,自主创新,在短短一年的时间里,先后推出4-8吋全自动Cassette type清洗设备、8吋全自动Cassette-less清洗设备及4-8腔Single tool清洗设备。成功导入青岛芯恩、成都德州仪器、上海积塔等国内头部芯片企业并获得重复性订单。同时强化软件实力,协同国内多家供应商着力开发验证关键零部件,取得了多项“卡脖子”技术的重大突破。
着眼未来,公司已正式进军12吋高阶Single及Wet bench设备领域,与国际一线大厂展开直接竞争。在扩大设备应用面的同时,凭借高效能的自动化设计,高产能的生产排程软件,高稳定性的传输系统等技术,结合高质量的品质系统,为客户进行国产关键零部件的质量把关,最终同广大上下游厂商一道,共同为中国半导体产业的发展做出更多贡献。